大気圧VHFプラズマを用いたSiの低温・高速成膜技術と薄膜トランジスタへの応用

• 垣内 弘章

• 大参 宏昌

• 安武 潔

書誌事項

タイトル別名

• タイキアツ VHF プラズマ オ モチイタ Si ノ テイオン ・ コウソクセイマク ギジュツ ト ハクマク トランジスタ エ ノ オウヨウ
• High-Rate and Low-Temperature Si Film Growth Technology and its Application for Thin Film Transistors
• 特集 FPDの進化を担う薄膜技術
• トクシュウ FPD ノ シンカ オ ニナウ ハクマク ギジュツ

収録刊行物

• ディスプレイ = Monthly display : FPD・照明・太陽電池の総合技術情報誌 / 月刊ディスプレイ編集委員会 編

  ディスプレイ = Monthly display : FPD・照明・太陽電池の総合技術情報誌 / 月刊ディスプレイ編集委員会 編 19 (11), 23-29, 2013-11

  東京 : テクノタイムズ社

詳細情報

• CRID: 1520010380153463040
• NII論文ID: 40019838869
• NII書誌ID: AA11422144
• ISSN: 13413961
• NDL書誌ID: 024951253
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I024951253
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles