EUV露光光源の研究開発の現状 (レーザー学会創立40周年記念) -- (「産業応用を目指したレーザー駆動XUV~X線の開発」解説小特集号) Progress of Extreme Ultraviolet (EUV) Source Development for Micro-Lithography

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収録刊行物

  • レーザー研究 = The review of laser engineering : レーザー学会誌

    レーザー研究 = The review of laser engineering : レーザー学会誌 42(1), 14-22, 2014-01

    レーザー学会

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    40019950835
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • ISSN
    0387-0200
  • NDL 記事登録ID
    025162567
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    NDL 
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