EUV露光光源の研究開発の現状 (レーザー学会創立40周年記念) -- (「産業応用を目指したレーザー駆動XUV~X線の開発」解説小特集号)  [in Japanese] Progress of Extreme Ultraviolet (EUV) Source Development for Micro-Lithography  [in Japanese]

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  • レーザー研究 = The review of laser engineering : レーザー学会誌

    レーザー研究 = The review of laser engineering : レーザー学会誌 42(1), 14-22, 2014-01

    レーザー学会

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    40019950835
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN00255326
  • Text Lang
    JPN
  • ISSN
    0387-0200
  • NDL Article ID
    025162567
  • NDL Call No.
    Z16-1040
  • Data Source
    NDL 
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