CA法によるta-C:H薄膜のCH₄流量比依存性

• 中谷 達行

• 國次 真輔

書誌事項

タイトル別名

• CAホウ ニ ヨル ta-C:H ハクマク ノ CH ₄ リュウリョウヒ イソンセイ
• A Methane Gas Flow Ratio-dependent Transition of Hydrogen-containing Tetrahedral Amorphous Carbon Films in Cathodic Vacuum Arc Plasma

収録刊行物

• 岡山理科大学技術科学研究所年報 = The bulletin of the Research Institute of Technology / 岡山理科大学技術科学研究所 編

  岡山理科大学技術科学研究所年報 = The bulletin of the Research Institute of Technology / 岡山理科大学技術科学研究所 編 (33), 1-5, 2015

  岡山 : 岡山理科大学技術科学研究所

詳細情報

• CRID: 1520290882793343488
• NII論文ID: 40020406605
• NII書誌ID: AA11819534
• ISSN: 13494155
• NDL書誌ID: 026271817
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I026271817
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN5(科学技術--建設工学・建設業--都市工学・衛生工学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles