半導体露光装置における構造変化検知

• 大坪 洋介

• 杉山 将

書誌事項

タイトル別名

• ハンドウタイ ロコウ ソウチ ニ オケル コウゾウ ヘンカ ケンチ
• Structural Change Detection in Lithography Systems
• 情報論的学習理論と機械学習 ; 情報論的学習理論ワークショップ(IBIS2016)
• ジョウホウロンテキ ガクシュウ リロン ト キカイ ガクシュウ ; ジョウホウロンテキ ガクシュウ リロン ワークショップ(IBIS2016)

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 116 (300), 1-8, 2016-11

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 半導体露光装置
• 構造変化検知
• センサログ
• 密度比推定
• グループ正則化
• Lithography system
• Structural change detection
• Sensor log
• Density ratio estimation
• group regularization

詳細情報

• CRID: 1520290882379896704
• NII論文ID: 40021032072
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 027791501
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I027791501
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles