コロイダルシリカを用いたゾルーゲル電気泳動堆積法によるシリカ膜の作製 (誘電・絶縁材料研究会・有機材料・薄膜・デバイス一般)  [in Japanese] Preparation of a silica films using the colloidal silica by the sol-gel electrophoretic deposition  [in Japanese]

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  • 電気学会研究会資料. DEI

    電気学会研究会資料. DEI 2017(1-13), 63-65, 2017-01-18

    電気学会

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    40021082058
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN10388224
  • Text Lang
    JPN
  • NDL Article ID
    027923681
  • NDL Call No.
    Z43-227
  • Data Source
    NDL 
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