単原子交互積層法による新規磁気異方性材料L1₀-FeNi薄膜の作製と特性評価
書誌事項
- タイトル別名
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- タンゲンシ コウゴ セキソウホウ ニ ヨル シンキ ジキ イホウセイ ザイリョウ L1 ₀-FeNi ハクマク ノ サクセイ ト トクセイ ヒョウカ
- Development and Properties of L1₀-FeNi Thin Films with Magnetic Anisotropy
- 特集 硬磁性膜作製技術の最前線(2)
- トクシュウ コウジセイマク サクセイ ギジュツ ノ サイゼンセン(2)
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収録刊行物
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- まぐね = Magnetics Japan
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まぐね = Magnetics Japan 12 (1), 13-20, 2017
東京 : 日本応用磁気学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520573331162426880
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- NII論文ID
- 40021083792
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- NII書誌ID
- AA1211610X
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- ISSN
- 18807208
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- NDL書誌ID
- 027926272
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles