二硫化モリブデン電界効果トランジスタに対する電子線リソグラフィの影響

• 松永 正広

• 青木 伸之

書誌事項

タイトル別名

• ニリュウカ モリブデン デンカイ コウカ トランジスタ ニ タイスル デンシセン リソグラフィ ノ エイキョウ
• Effect of Electron Beam Lithography on MoS₂ Field Effect Transistors

収録刊行物

• Jasco report

  Jasco report 59 (2), 13-18, 2017-07

  八王子 : ジャスコレポート社

キーワード

• molybdenum disulfides
• scanning gate microscopy
• electrostatic force microscopy
• electron beam exposure
• compressive strain
• band gap modification

詳細情報

• CRID: 1523951030468793600
• NII論文ID: 40021261424
• NII書誌ID: AN0030513X
• ISSN: 09163492
• NDL書誌ID: 028377906
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/028377906
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028377906
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZP4(科学技術--化学・化学工業--分析化学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles
  • KAKEN