触媒反応支援CVD法におけるパルスガス供給によるZnO結晶膜の単分子層成長制御

• 齋藤 太朗

• 小野 翔太郎

• 伊庭 竜太

• 安井 寛治

書誌事項

タイトル別名

• ショクバイ ハンノウ シエン CVDホウ ニ オケル パルスガス キョウキュウ ニ ヨル ZnO ケッショウマク ノ タンブンシソウ セイチョウ セイギョ
• Monomolecular layer growth control of ZnO films by pulse supply of a metal source gas in catalytic reaction-assisted chemical vapor deposition
• 電子部品・材料
• デンシ ブヒン ・ ザイリョウ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 117 (148), 57-60, 2017-07

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 触媒反応
• 高エネルギーH₂O
• ミリパルス制御
• 単分子層成長
• catalytic reaction
• high-temperature H₂O beam
• pulse gas control
• monomolecular layer growth

詳細情報

• CRID: 1520290883400171648
• NII論文ID: 40021285752
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 028443175
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028443175
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles