Growth of high quality InSb channel layer with In[x]Ga[₁₋x]Sb heteroepitaxial films on Si(111)

• A. A. Mohammad MONZUR-UL-AKHIR

• Masayuki MORI

• Koichi MAEZAWA

書誌事項

タイトル別名

• シリコン材料・デバイス
• シリコン ザイリョウ ・ デバイス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 118 (60), 15-18, 2018-05-24

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• Reflection high-energy electron diffraction (RHEED)
• X-ray scattering, diffraction, and reflection
• Scanning electron microscopy (SEM)

詳細情報

• CRID: 1520009407731709184
• NII論文ID: 40021561975
• NII論文ID: 40021562149
• NII論文ID: 40021562070
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 029024115
• NDL書誌ID: 029024379
• NDL書誌ID: 029024229
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/029024115
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I029024115
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/029024379
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I029024379
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/029024229
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I029024229
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles