シリコンのPECエッチングによる高アスペクト比ナノスケール微細孔の作製

• 安藤 妙子

• 東野 純也

• 田村 宜通

書誌事項

タイトル別名

• シリコン ノ PEC エッチング ニ ヨル コウアスペクトヒ ナノスケール ビサイコウ ノ サクセイ
• Fabrication of High-Aspect Nanoscale Hole in Si with Photo-Electro-Chemical Etching

収録刊行物

• 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]

  「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 35 3p-, 2018

  [東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan

キーワード

• シリコン
• PECエッチング
• 微細孔
• 高アスペクト比
• ナノスケール
• silicon
• PEC etching
• micro pore
• high aspect ratio
• nanoscale

詳細情報

• CRID: 1520853833164125312
• NII論文ID: 40021976590
• NDL書誌ID: 029905371
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I029905371
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles