高SN比CMOS吸光イメージセンサによる半導体プロセスチャンバー内ガス濃度分布計測

• 髙橋 圭吾

• Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva

• 黒田 理人

• 藤原 康行

• 村田 真麻

• 石井 秀和

• 森本 達郎

• 諏訪 智之

• 寺本 章伸

• 須川 成利

書誌事項

タイトル別名

• コウSNヒ CMOS キュウコウ イメージセンサ ニ ヨル ハンドウタイ プロセスチャンバー ナイ ガス ノウド ブンプ ケイソク
• Gas concentration distribution measurement in semiconductor process chamber using a high SNR CMOS absorption image sensor
• シリコン材料・デバイス
• シリコン ザイリョウ ・ デバイス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 119 (239), 65-68, 2019-10

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 分光イメージング
• 濃度センサ
• 吸光分析
• CMOSイメージセンサ
• Spectral imaging
• Concentration sensor
• Absorption spectrometry
• CMOS image sensor

詳細情報

• CRID: 1520290883939769728
• NII論文ID: 40022064646
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 030074212
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I030074212
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles