Development for the resistive plate chamber (RPC)

• Yuto ISHIZUKI

• Jumpei TAKAHASHI

• Daisuke TAKI

• Kento TERADA

• Hiroaki Ohnishi

収録刊行物

• ELPH annual report

  ELPH annual report 39-43, 2018

  仙台 : 東北大学電子光理学研究センター

詳細情報

• CRID: 1520009410233634176
• NII論文ID: 40022109801
• NII書誌ID: AA12756178
• ISSN: 21867968
• NDL書誌ID: 030158375
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I030158375
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles