次世代半導体リソグラフィの実用化に至るEUV光源のプラズマ研究開発のあゆみ

• 佐々木 明

書誌事項

タイトル別名

• ジセダイ ハンドウタイ リソグラフィ ノ ジツヨウカ ニ イタル EUV コウゲン ノ プラズマ ケンキュウ カイハツ ノ アユミ
• The Progress on the Plasma Research for EUV Light Source for Next Generation Semiconductor Lithography

収録刊行物

• プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編

  プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編 96 (6), 283-289, 2020-06

  名古屋 : プラズマ・核融合学会編集委員会

キーワード

• laser plasma
• lithography
• EUV
• spectroscopy
• simulation

詳細情報

• CRID: 1520853832939241344
• NII論文ID: 40022300244
• NII書誌ID: AN10401672
• ISSN: 09187928
• NDL書誌ID: 030548154
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I030548154
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles
  • KAKEN