プラズマCVDによるシリコン薄膜の成長過程に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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プラズマCVDによるシリコン薄膜の成長過程に関する研究
- 著者名
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松田, 彰久
- 著者別名
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マツダ, アキヒサ
- 学位授与大学
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東京工業大学
- 取得学位
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工学博士
- 学位授与番号
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乙第1519号
- 学位授与年月日
-
1986-01-31
注記・抄録
博士論文
プラズマCVDによるシリコン薄膜の成長過程に関する研究
松田, 彰久
マツダ, アキヒサ
東京工業大学
工学博士
乙第1519号
1986-01-31
博士論文