サファイア上及び酸素イオン注入により形成した絶縁層上のシリコン薄膜の評価に関する研究

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Author

    • 林, 孝好 ハヤシ, タカヨシ

Bibliographic Information

Title

サファイア上及び酸素イオン注入により形成した絶縁層上のシリコン薄膜の評価に関する研究

Author

林, 孝好

Author(Another name)

ハヤシ, タカヨシ

University

名古屋大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第2882号

Degree year

1985-08-01

Note and Description

博士論文

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000011251
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000011258
  • NDLBibID
    • 000000175565
  • Source
    • NDL ONLINE
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