低抵抗高融点金属シリサイドによる半導体大規模集積回路(LSI)の高速化・高性能化に関する研究

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Author

    • 岡本, 龍郎 オカモト, タツオ

Bibliographic Information

Title

低抵抗高融点金属シリサイドによる半導体大規模集積回路(LSI)の高速化・高性能化に関する研究

Author

岡本, 龍郎

Author(Another name)

オカモト, タツオ

University

大阪大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第4138号

Degree year

1987-03-20

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (6コマ目)
6access

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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000014409
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000014418
  • DOI(NDL)
  • Text Lang
    • und
  • NDLBibID
    • 000000178723
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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