Quantum chemical studies on electron resists for VLSI 超LSI用電子線レジストの量子化学的研究

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著者

    • 多田, 宰 タダ, ツカサ

書誌事項

タイトル

Quantum chemical studies on electron resists for VLSI

タイトル別名

超LSI用電子線レジストの量子化学的研究

著者名

多田, 宰

著者別名

タダ, ツカサ

学位授与大学

京都大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第6209号

学位授与年月日

1987-03-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 (9コマ目)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000016563
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000016582
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000180877
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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