N-シリル化ジアミンを用いる縮合系高分子の合成に関する研究

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Author

    • 大石, 好行 オオイシ, ヨシユキ

Bibliographic Information

Title

N-シリル化ジアミンを用いる縮合系高分子の合成に関する研究

Author

大石, 好行

Author(Another name)

オオイシ, ヨシユキ

University

東京工業大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

甲第1804号

Degree year

1987-03-26

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (6コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000020547
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000020571
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000184861
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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