高抵抗率半導体における位相メモリ現象と深い準位に関する研究

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著者

    • 吉江, 治 ヨシエ, オサム

書誌事項

タイトル

高抵抗率半導体における位相メモリ現象と深い準位に関する研究

著者名

吉江, 治

著者別名

ヨシエ, オサム

学位授与大学

慶應義塾大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第1831号

学位授与年月日

1987-09-11

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 (12コマ目)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000021882
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000021907
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000186196
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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