高集積半導体素子製造におけるシリコンエピタキシャル成長技術の応用に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
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高集積半導体素子製造におけるシリコンエピタキシャル成長技術の応用に関する研究
- Author
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長尾, 繁雄
- Author(Another name)
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ナガオ, シゲオ
- University
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大阪大学
- Types of degree
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工学博士
- Grant ID
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乙第4409号
- Degree year
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1988-03-17
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 (4コマ目)