シリコンへのチャネリングイオン注入に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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シリコンへのチャネリングイオン注入に関する研究
- 著者名
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古谷, 恒男
- 著者別名
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フルヤ, ツネオ
- 学位授与大学
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大阪大学
- 取得学位
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工学博士
- 学位授与番号
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乙第3297号
- 学位授与年月日
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1984-02-01
注記・抄録
博士論文
シリコンへのチャネリングイオン注入に関する研究
古谷, 恒男
フルヤ, ツネオ
大阪大学
工学博士
乙第3297号
1984-02-01
博士論文