Preparation and characterization of heteroepitaxial semiconductor films ヘテロエピタキシアル半導体薄膜の作製及び特性評価

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Author

    • 西林, 良樹 ニシバヤシ, ヨシキ

Bibliographic Information

Title

Preparation and characterization of heteroepitaxial semiconductor films

Other Title

ヘテロエピタキシアル半導体薄膜の作製及び特性評価

Author

西林, 良樹

Author(Another name)

ニシバヤシ, ヨシキ

University

広島大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

甲第711号

Degree year

1988-03-24

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (6コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000045752
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000045835
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000210066
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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