高周波スパッタリング法によるシリコン半導体用SiO2表面保護膜形成に関する研究

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著者

    • 原, 邦彦 ハラ, クニヒコ

書誌事項

タイトル

高周波スパッタリング法によるシリコン半導体用SiO2表面保護膜形成に関する研究

著者名

原, 邦彦

著者別名

ハラ, クニヒコ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第2650号

学位授与年月日

1984-07-05

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000050591
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000050702
  • NDL書誌ID
    • 000000214905
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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