Low temperature growth of SiO[2] thin film by direct-excitation photo-induced CVD using VUV light 真空紫外光直接励起型光CVD法によるSiO[2]膜の低温成長に関する研究

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著者

    • 井上, 幸二 イノウエ, コウジ

書誌事項

タイトル

Low temperature growth of SiO[2] thin film by direct-excitation photo-induced CVD using VUV light

タイトル別名

真空紫外光直接励起型光CVD法によるSiO[2]膜の低温成長に関する研究

著者名

井上, 幸二

著者別名

イノウエ, コウジ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第3964号

学位授与年月日

1989-03-24

注記・抄録

博士論文

14401甲第03964号

工学博士

大阪大学

1989-03-24

08687

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000054459
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000054581
  • NDL書誌ID
    • 000000218773
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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