結晶Siにおけるイオン注入軽元素不純物の挙動に関する研究

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著者

    • 伊藤, 久義 イトウ, ヒサヨシ

書誌事項

タイトル

結晶Siにおけるイオン注入軽元素不純物の挙動に関する研究

著者名

伊藤, 久義

著者別名

イトウ, ヒサヨシ

学位授与大学

筑波大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

博甲第460号

学位授与年月日

1987-03-25

注記・抄録

博士論文

1986

【要旨】

目次

  1. 目次 (5コマ目)
3アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000058954
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000059108
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000223268
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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