イオン注入技術のサブミクロン超LSIへの応用に関する研究

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Author

    • 布施, 玄秀 フセ, ゲンシュウ

Bibliographic Information

Title

イオン注入技術のサブミクロン超LSIへの応用に関する研究

Author

布施, 玄秀

Author(Another name)

フセ, ゲンシュウ

University

大阪大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第4799号

Degree year

1989-07-27

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (5コマ目)
2access

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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000060933
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000061094
  • DOI(NDL)
  • Text Lang
    • und
  • NDLBibID
    • 000000225247
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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