光CVD法によるアモルファスシリコン系薄膜の堆積とその電気的、光学的性質の研究

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Author
    • 鈴木, 和彦 スズキ, カズヒコ
Bibliographic Information
Title

光CVD法によるアモルファスシリコン系薄膜の堆積とその電気的、光学的性質の研究

Author

鈴木, 和彦

Author(Another name)

スズキ, カズヒコ

University

北海道大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第3740号

Degree year

1990-03-24

Note and Description

博士論文

Table of Contents
  1. 目次 (3コマ目)
0access
Codes
  • NII Article ID (NAID)
    500000064305
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000064475
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000228619
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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