Chemical structures and electronic properties of silicon nitride films シリコン窒化膜の化学構造と電子物性に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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Chemical structures and electronic properties of silicon nitride films
- タイトル別名
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シリコン窒化膜の化学構造と電子物性に関する研究
- 著者名
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藤田, 静雄
- 著者別名
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フジタ, シズオ
- 学位授与大学
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京都大学
- 取得学位
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工学博士
- 学位授与番号
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乙第7243号
- 学位授与年月日
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1990-05-23
注記・抄録
博士論文
本文データは国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化事業により作成された画像ファイルを基にpdf変換したものである
目次
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