高速イオンビームによるSi(111)上の金属の吸着脱離過程の研究
この論文にアクセスする
この論文をさがす
著者
書誌事項
- タイトル
-
高速イオンビームによるSi(111)上の金属の吸着脱離過程の研究
- 著者名
-
築野, 孝
- 著者別名
-
ツノ, タカシ
- 学位授与大学
-
東京大学
- 取得学位
-
理学博士
- 学位授与番号
-
甲第8424号
- 学位授与年月日
-
1990-03-29
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 (4コマ目)
高速イオンビームによるSi(111)上の金属の吸着脱離過程の研究
築野, 孝
ツノ, タカシ
東京大学
理学博士
甲第8424号
1990-03-29
博士論文