高分子基板アモルファスシリコン太陽電池の性能向上に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
高分子基板アモルファスシリコン太陽電池の性能向上に関する研究
- 著者名
-
鈴木, 和富
- 著者別名
-
スズキ, カズトミ
- 学位授与大学
-
東北大学
- 取得学位
-
工学博士
- 学位授与番号
-
乙第5383号
- 学位授与年月日
-
1990-11-14
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0005.jp2)
- 1-1 太陽光発電開発の意義 / p1 (0005.jp2)
- 1-2 太陽光発電の特徴 / p2 (0006.jp2)
- 1-3 太陽電池の特徴と既往の研究 / p5 (0007.jp2)
- 1-4 本研究の目的と内容 / p15 (0012.jp2)
- 1-5 引用文献 / p19 (0014.jp2)
- 第2章 高分子フイルム基板アモルファスシリコン太陽電池の製造法と､光電変換特性の測定法 / p21 (0015.jp2)
- 2-1 高分子フイルム基板太陽電池の基本構造と製造法 / p21 (0015.jp2)
- 2-2 光電変換特性の測定法 / p28 (0019.jp2)
- 2-3 引用文献 / p32 (0021.jp2)
- 第3章 高分子フィルム/金属電極膜界面 / p33 (0021.jp2)
- 3-1 序言 / p33 (0021.jp2)
- 3-2 太陽電池特性のアモルファスシリコン層堆積温度依存性 / p33 (0021.jp2)
- 3-3 ポリエステルフイルム上に作製した太陽電池の外観上の問題点 / p34 (0022.jp2)
- 3-4 外観上の問題点の原因究明と対策 / p37 (0023.jp2)
- 3-5 高分子フィルム基板の熱変質と太陽電池特性 / p50 (0030.jp2)
- 3-6 まとめ / p56 (0033.jp2)
- 3-7 引用文献 / p58 (0034.jp2)
- 第4章 金属電極膜/アモルファスシリコン膜界面 / p59 (0034.jp2)
- 4-1 序言 / p59 (0034.jp2)
- 4-2 金属電極膜の表面反射率向上 / p59 (0034.jp2)
- 4-3 光閉じ込め型電極膜 / p77 (0043.jp2)
- 4-4 まとめ / p94 (0052.jp2)
- 4-5 引用文献 / p97 (0053.jp2)
- 第5章 連続製膜法によるアモルファスシリコン層の形成 / p98 (0054.jp2)
- 5-1 序言 / p98 (0054.jp2)
- 5-2 枚葉式法と連続製膜法の比較 / p98 (0054.jp2)
- 5-3 反応ガスの分離機構 / p106 (0058.jp2)
- 5-4 アモルファスシリコン層の膜質制御 / p111 (0060.jp2)
- 5-5 まとめ / p114 (0062.jp2)
- 5-6 引用文献 / p116 (0063.jp2)
- 第6章 透明電極膜の形成 / p117 (0063.jp2)
- 6-1 序言 / p117 (0063.jp2)
- 6-2 ITO膜形成の予備的吟味 / p117 (0063.jp2)
- 6-3 スパッタリング法によるITO膜の形成 / p118 (0064.jp2)
- 6-4 まとめ / p127 (0068.jp2)
- 6-5 引用文献 / p128 (0069.jp2)
- 第7章 モジュール化のための界面の設計 / p129 (0069.jp2)
- 7-1 序言 / p129 (0069.jp2)
- 7-2 太陽電池の分割 / p130 (0070.jp2)
- 7-3 直列接続化 / p137 (0073.jp2)
- 7-4 保護フィルムの表面形状制御による太陽電池特性の改善 / p140 (0075.jp2)
- 7-5 まとめ / p149 (0079.jp2)
- 7-6 引用文献 / p151 (0080.jp2)
- 第8章 総括 / p152 (0081.jp2)
- 謝辞 / p160 (0085.jp2)
- 論文 / p161 (0085.jp2)
- 出願特許 / p163 (0086.jp2)