直接点弧型光トリガ大電力サイリスタに関する研究

Search this Article

Author

    • 大橋, 弘通 オオハシ, ヒロミチ

Bibliographic Information

Title

直接点弧型光トリガ大電力サイリスタに関する研究

Author

大橋, 弘通

Author(Another name)

オオハシ, ヒロミチ

University

東北大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第5398号

Degree year

1990-12-12

Note and Description

博士論文

博士学位論文 (Thesis(doctor))

identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:99004186

Table of Contents

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 大電力サイリスタの光トリガ方式 / p2 (0006.jp2)
  5. 1.3 光トリガサイリスタの研究課題 / p5 (0007.jp2)
  6. 第2章 光トリガ・サイリスタの設計理論 / p7 (0008.jp2)
  7. 2.1 まえがき / p7 (0008.jp2)
  8. 2.2 基本設計 / p8 (0009.jp2)
  9. 2.3 設計パラメータの実現 / p21 (0015.jp2)
  10. 2.4 計算例 / p33 (0021.jp2)
  11. 2.5 むすび / p35 (0022.jp2)
  12. 第3章 4kV素子による設計理論の検証 / p37 (0023.jp2)
  13. 3.1 まえがき / p37 (0023.jp2)
  14. 3.2 新型受光部の検討 / p38 (0024.jp2)
  15. 3.3 光トリガサイリスタの耐圧設計 / p47 (0028.jp2)
  16. 3.4 4kV素子の開発 / p55 (0032.jp2)
  17. 3.5 光トリガ大電力サイリスタの応用 / p65 (0037.jp2)
  18. 3.6 むすび / p71 (0040.jp2)
  19. 第4章 光トリガ・サイリスタの高耐圧化 / p73 (0041.jp2)
  20. 4.1 まえがき / p73 (0041.jp2)
  21. 4.2 高耐圧新型ゲート構造の開発 / p74 (0042.jp2)
  22. 4.3 低損失化プロセス / p82 (0046.jp2)
  23. 4.4 8kV素子の特性 / p84 (0047.jp2)
  24. 4.5 むすび / p97 (0053.jp2)
  25. 第5章 過電圧保護機能の集積化 / p99 (0054.jp2)
  26. 5.1 まえがき / p99 (0054.jp2)
  27. 5.2 基本方式の決定 / p99 (0054.jp2)
  28. 5.3 設計理論 / p103 (0056.jp2)
  29. 5.4 基本プロセスの検討 / p107 (0058.jp2)
  30. 5.5 素子開発と特性評価 / p113 (0061.jp2)
  31. 5.6 むすび / p124 (0067.jp2)
  32. 第6章 結論 / p125 (0067.jp2)
  33. 付録1 Fulopの方法による電流増幅率の測定 / p129 (0069.jp2)
  34. 付録2 簡易耐圧数値計算モデル / p135 (0072.jp2)
  35. 付録3 光トリガ信号伝送技術 / p138 (0074.jp2)
  36. 謝辞 / p149 (0079.jp2)
  37. 参考文献 / p151 (0080.jp2)
  38. 研究業績一覧 / p159 (0084.jp2)
6access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000072497
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000072692
  • DOI(NDL)
  • Text Lang
    • jpn
  • NDLBibID
    • 000000236811
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
Page Top