集束イオンビームのナノメートル加工への応用に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
集束イオンビームのナノメートル加工への応用に関する研究
- 著者名
-
塩川, 高雄
- 著者別名
-
シオカワ, タカオ
- 学位授与大学
-
大阪大学
- 取得学位
-
工学博士
- 学位授与番号
-
乙第5223号
- 学位授与年月日
-
1990-12-19
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0004.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1-1 概要 / p1 (0005.jp2)
- 1-2 目的 / p5 (0007.jp2)
- 1-3 構成 / p6 (0008.jp2)
- 第2章 集束イオンビーム装置 / p8 (0009.jp2)
- 2-1 はじめに / p8 (0009.jp2)
- 2-2 液体金属イオン源 / p8 (0009.jp2)
- 2-3 集束イオンビーム装置 / p13 (0011.jp2)
- 2-5 まとめ / p30 (0020.jp2)
- 第3章 集束イオンビームによるナノメートルリソグラフィ / p31 (0020.jp2)
- 3-1 はじめに / p31 (0020.jp2)
- 3-2 PMMA､CMSの露光特性 / p31 (0020.jp2)
- 3-3 2層レジストによるリソグラフィ / p49 (0029.jp2)
- 3-4 まとめ / p57 (0033.jp2)
- 第4章 集束イオンビームによる改質と損傷を用いた微細加工 / p58 (0034.jp2)
- 4-1 はじめに / p58 (0034.jp2)
- 4-2 注入による損傷を利用した微細加工 / p58 (0034.jp2)
- 4-3 Si0₂膜の改質による微細加工 / p66 (0038.jp2)
- 4-4 まとめ / p71 (0040.jp2)
- 第5章 結論 / p72 (0041.jp2)
- 参考文献 / p73 (0041.jp2)
- 研究業績 / p78 (0044.jp2)
- 謝辞 / p90 (0050.jp2)
