置換ポリアセチレンの分離膜およびレジスト特性に関する研究
Access this Article
Search this Article
Author
Bibliographic Information
- Title
-
置換ポリアセチレンの分離膜およびレジスト特性に関する研究
- Author
-
高田, 耕一
- Author(Another name)
-
タカダ, コウイチ
- University
-
京都大学
- Types of degree
-
工学博士
- Grant ID
-
乙第7400号
- Degree year
-
1991-01-23
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 論文目録 / (0001.jp2)
- 目次 / (0004.jp2)
- 緒論 / p1 (0005.jp2)
- 1 )従来の研究 / p1 (0005.jp2)
- 2 )置換ポリアチレンの特徴 / p2 (0006.jp2)
- 3 )本研究の目的及び概要 / p4 (0007.jp2)
- 第1編 ポリ(1 -トリメチルシリル-1-プロピン)酸素富化膜 / (0011.jp2)
- 1章 置換ポリアセチレンの気体透過性 / p13 (0012.jp2)
- 2章 超薄膜の成形とその複合膜 / p24 (0018.jp2)
- 3章 複合膜の経時変化 / p36 (0024.jp2)
- 4 章 非対称性膜の成形､その酸素富化機能の複合膜との比較 / p51 (0031.jp2)
- 5章 シロキサン基導人による膜性能の経時安定性の向上 / p65 (0038.jp2)
- 第2編 ポリフェニルクロロアセチレンの溶液系分離膜への応用 / (0046.jp2)
- 第6章 ルーズ逆浸透膜(RO膜)の開発 / p81 (0047.jp2)
- 第7章 中空糸型限外濾過膜の開発 / p95 (0054.jp2)
- 第3編 ポリ(1-トリメチルシリル-1-プロピン)の超LSI用レジストヘの応用 / (0062.jp2)
- 第8章 紫外線照射による分解特性 / p111 (0063.jp2)
- 第9章 超LSI用レジストの開発 / p125 (0070.jp2)
- 後記 / p137 (0076.jp2)
- 本論文に関する研究報告 / p138 (0077.jp2)
- 謝辞 / p141 (0078.jp2)