高硬度窒化ほう素膜の室温合成

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著者

    • 安東, 靖典 アンドウ, ヤスノリ

書誌事項

タイトル

高硬度窒化ほう素膜の室温合成

著者名

安東, 靖典

著者別名

アンドウ, ヤスノリ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5243号

学位授与年月日

1991-02-01

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1-1 窒化ほう素の物性と薄膜化 / p1 (0006.jp2)
  4. 1-2 高硬度膜の必要性 / p4 (0009.jp2)
  5. 1-3 イオン蒸着薄膜形成法 / p8 (0013.jp2)
  6. 第2章 イオン蒸着薄膜形成装置と実験方法 / p11 (0016.jp2)
  7. 2-1 緒論 / p11 (0016.jp2)
  8. 2-2 蒸着速度とイオンビーム電流密度について / p11 (0016.jp2)
  9. 2-3 イオン蒸着薄膜形成装置の構成とその性能 / p13 (0018.jp2)
  10. 2-4 成膜実験方法概要 / p24 (0029.jp2)
  11. 2-5 評価方法 / p25 (0030.jp2)
  12. 2-6 エネルギー粒子の入射による効果 / p27 (0032.jp2)
  13. 第3章 イオン蒸着法による窒化ほう素膜の作製 / p34 (0039.jp2)
  14. 3-1 緒論 / p34 (0039.jp2)
  15. 3-2 組成制御 / p34 (0039.jp2)
  16. 3-3 膜構造 / p39 (0044.jp2)
  17. 3-4 硬度 / p53 (0058.jp2)
  18. 3-5 結論 / p55 (0060.jp2)
  19. 第4章 窒素と不活性ガスとの混合イオンによる結品化制御 / p57 (0062.jp2)
  20. 4-1緒論 / p57 (0062.jp2)
  21. 4-2 実験方法 / p58 (0063.jp2)
  22. 4-3 混合ガスイオンによる結品化制御 / p58 (0063.jp2)
  23. 4-4 混合ガスイオンの効果に関する考察 / p65 (0070.jp2)
  24. 4-5 混合ガスイオンによる硬度への効果 / p73 (0078.jp2)
  25. 4-6 結論 / p76 (0081.jp2)
  26. 第5章 窒化ほう素膜の特性 / p77 (0082.jp2)
  27. 5-1 緒論 / p77 (0082.jp2)
  28. 5-2 実験方法 / p78 (0083.jp2)
  29. 5-3 摩耗特性 / p81 (0086.jp2)
  30. 5-4 結論 / p91 (0096.jp2)
  31. 第6章 結論 / p92 (0097.jp2)
  32. 参考文献 / p95 (0100.jp2)
  33. 謝辞 / (0103.jp2)
  34. 発表論文リスト / (0104.jp2)
  35. 参考発表論文リスト / (0105.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000075840
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000076040
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • und
  • NDL書誌ID
    • 000000240154
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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