高エネルギーイオンビームを用いた表面分析装置の開発研究
Access this Article
Search this Article
Author
Bibliographic Information
- Title
-
高エネルギーイオンビームを用いた表面分析装置の開発研究
- Author
-
井上, 憲一
- Author(Another name)
-
イノウエ, ケンイチ
- University
-
大阪大学
- Types of degree
-
工学博士
- Grant ID
-
乙第5287号
- Degree year
-
1991-02-26
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / (0005.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
- 1-1.研究の背景 / p1 (0007.jp2)
- 1-2.高エネルギーイオン分析装置の現状 / p3 (0008.jp2)
- 1-3.論文の構成 / p6 (0010.jp2)
- 第2章 高エネルギーイオン分析の基本原理と応用 / p10 (0012.jp2)
- 2-1.RBS法 / p10 (0012.jp2)
- 2-2.PIXE法 / p17 (0015.jp2)
- 2-3.ERDA法 / p20 (0017.jp2)
- 2-4.チャネリングを利用した結晶評価 / p22 (0018.jp2)
- 2-5.他の表面分析手法との比較 / p24 (0019.jp2)
- 第3章 イオンマイクロプローブの実現 / p26 (0020.jp2)
- 3-1.概説 1.5MeV マイクロビームラインの概要 / p26 (0020.jp2)
- 3-2.イオン軌道追跡シミュレーション / p33 (0023.jp2)
- 3-3.ビームスポット径の測定 / p41 (0027.jp2)
- 3-4.最小ビーム径を決定する要因 / p44 (0029.jp2)
- 3-5.まとめ / p52 (0033.jp2)
- 第4章 サブミクロン･ビーム集束光学系の開発 / p53 (0033.jp2)
- 4-1.サブミクロン･プローブを実現するための課題 / p53 (0033.jp2)
- 4-2.0.5MeV マイクロビームラインの設計･製作 / p56 (0035.jp2)
- 4-3.低収差四重極レンズの開発 / p61 (0038.jp2)
- 4-4.低散乱対物スリットの開発 / p69 (0042.jp2)
- 4-5.ビーム集束特性の評価 / p72 (0043.jp2)
- 4-6.まとめ / p73 (0044.jp2)
- 第5章 実用イオン分析装置の開発 / p74 (0044.jp2)
- 5-1.設計概念 / p74 (0044.jp2)
- 5-2.装置構成 / p77 (0046.jp2)
- 5-3.ビーム光学系の評価 / p90 (0053.jp2)
- 5-4.特性試験結果 / p97 (0056.jp2)
- 5-5.他ビームラインとの仕様比較 / p106 (0061.jp2)
- 5-6.まとめ / p109 (0062.jp2)
- 第6章 高エネルギーイオンプローブを用いた応用分析の開拓 / p110 (0063.jp2)
- 6-1.イオン分析における分析画像化手法 / p110 (0063.jp2)
- 6-2.照射損傷における非破壊分析の限界 / p117 (0068.jp2)
- 6-3.まとめ / p124 (0072.jp2)
- 第7章 結論 / p125 (0072.jp2)
- 謝辞 / p128 (0074.jp2)
- 参考文献 / p130 (0075.jp2)
- 研究業績目録 / p135 (0077.jp2)
