Nuclear magnetic resonance studies on H and F in amorphous silicon and related materials アモルファスシリコンと関連物質の水素とフッ素の核磁気共鳴
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著者
書誌事項
- タイトル
-
Nuclear magnetic resonance studies on H and F in amorphous silicon and related materials
- タイトル別名
-
アモルファスシリコンと関連物質の水素とフッ素の核磁気共鳴
- 著者名
-
上田, 庄一
- 著者別名
-
ウエダ, ショウイチ
- 学位授与大学
-
大阪大学
- 取得学位
-
工学博士
- 学位授与番号
-
乙第5289号
- 学位授与年月日
-
1991-02-26
注記・抄録
博士論文
目次
- Contents / p4 (0006.jp2)
- 1.Introduction / p1 (0007.jp2)
- 2.Experimental Method / p7 (0013.jp2)
- 2.1 Sample Preparation / p7 (0013.jp2)
- 2.2 NMR and ESR Measurements / p7 (0013.jp2)
- 3.F and H NMR in a-Si:(F,H) and a-Si:H / p9 (0015.jp2)
- 3.1 F and H NMR and ESR in a-Si:(F,H) and a-Si:H / p9 (0015.jp2)
- 3.2 Annealing Effects / p14 (0020.jp2)
- 3.3 Motional Narrowing Effect / p19 (0025.jp2)
- 4.Role of Hydrogen and Fluorine / p31 (0037.jp2)
- 5.NMR and IR Studies on Hydrogenated Amorphous [化学式]Films / p39 (0045.jp2)
- 6.H NMR in μc-Si:H / p49 (0055.jp2)
- 7.Conclusion / p56 (0062.jp2)
- References / p57 (0063.jp2)
