酸化物高温超伝導体薄膜の作成と評価に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
-
酸化物高温超伝導体薄膜の作成と評価に関する研究
- Author
-
畝川, 康夫
- Author(Another name)
-
ウネカワ, ヤスオ
- University
-
東京大学
- Types of degree
-
工学博士
- Grant ID
-
甲第9010号
- Degree year
-
1991-03-29
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
- 1.1 本研究の背景 / p1 (0007.jp2)
- 1.2 酸化物高温超伝導体の基礎物性 / p2 (0008.jp2)
- 1.3 本研究の目的 / p10 (0016.jp2)
- 1.4 本論文の構成 / p12 (0018.jp2)
- 第2章 酸化物高温超伝導体薄膜の評価手法 / p13 (0019.jp2)
- 2.1 はじめに / p13 (0019.jp2)
- 2.2 薄膜の表面モフォロジー / p13 (0019.jp2)
- 2.3 薄膜組成の定性･定量分析 / p14 (0020.jp2)
- 2.4 薄膜の結晶性および配向性 / p19 (0025.jp2)
- 2.5 薄膜の電気的特性 / p20 (0026.jp2)
- 2.6 第2章のまとめ / p26 (0032.jp2)
- 第3章 狭ギャップスパッタリング法によるY-Ba-Cu-O薄膜の作成(I) / p28 (0034.jp2)
- 3.1 はじめに / p28 (0034.jp2)
- 3.2 成膜方法 / p28 (0034.jp2)
- 3.3 超伝導特性のスパッタ条件依存性 / p33 (0039.jp2)
- 3.4 超伝導特性のアニール条件依存性 / p49 (0055.jp2)
- 3.5 超伝導特性のスパッタ時間依存性 / p52 (0058.jp2)
- 3.6 超伝導特性の基板依存性 / p64 (0070.jp2)
- 3.7 超伝導遷移幅のパラメータ依存性 / p64 (0070.jp2)
- 3.8 第3章のまとめ / p68 (0074.jp2)
- 第4章 狭ギャップスパッタリング法によるY-Ba-Cu-O薄膜の作成(II) / p69 (0075.jp2)
- 4.1 はじめに / p69 (0075.jp2)
- 4.2 off axisスパッタリング法による超伝導特性の改善 / p69 (0075.jp2)
- 4.3 成膜中の基板加熱によるas-depo超伝導薄膜の作成 / p70 (0076.jp2)
- 4.4 RTA法による結晶化 / p74 (0080.jp2)
- 4.5 プラズマ陽極酸化法による薄膜中の酸素欠損量制御 / p91 (0097.jp2)
- 4.6 金属基板上への超伝導薄膜の作成 / p100 (0106.jp2)
- 4.7 電子プローブマイクロアナライザによるYBCO薄膜の状態分析 / p102 (0108.jp2)
- 4.8 第4章のまとめ / p107 (0113.jp2)
- 第5章 有機金属気相堆積法によるBi-Sr-Ca-Cu-O薄膜の作成 / p108 (0114.jp2)
- 5.1 はじめに / p108 (0114.jp2)
- 5.2 有機金属原料の選定 / p109 (0115.jp2)
- 5.3 装置構成の検討 / p111 (0117.jp2)
- 5.4 BSCCO薄膜の組成制御 / p114 (0120.jp2)
- 5.5 第5章のまとめ / p121 (0127.jp2)
- 第6章 結論 / p128 (0134.jp2)
- 謝辞 / p131 (0006.jp2)
- 参考文献 / p132 (0137.jp2)
- 本研究に関する公表文献および研究発表 / p134 (0139.jp2)
