熱プラズマCVD法によるセラミックス微粒子合成とその焼結特性
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著者
書誌事項
- タイトル
-
熱プラズマCVD法によるセラミックス微粒子合成とその焼結特性
- 著者名
-
李, 亨稙
- 著者別名
-
リ, ヒョンチク
- 学位授与大学
-
東京大学
- 取得学位
-
工学博士
- 学位授与番号
-
甲第9037号
- 学位授与年月日
-
1991-03-29
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1-1 緒言 / p1 (0005.jp2)
- 1-2 熱プラズマと微粒子合成 / p2 (0006.jp2)
- 1-3 Si₃N₄の無添加無加圧焼結の可能性 / p12 (0016.jp2)
- 1-4 本論文の構成 / p15 (0019.jp2)
- 参考文献 / p16 (0020.jp2)
- 第2章 ハイブリッドプラズマによるSi₃N₄-SiC系微粒子合成における生成過程制御 / p19 (0023.jp2)
- 2-1 緒言 / p19 (0023.jp2)
- 2-2 実験方法 / p19 (0023.jp2)
- 2-3 実験結果 / p26 (0030.jp2)
- 2-4 考察 / p45 (0049.jp2)
- 2-5 結論 / p51 (0055.jp2)
- 参考文献 / p51 (0055.jp2)
- 第3章 加熱履歴制御によるSi₃N₄-SiC系微粒子の焼結特性 / p53 (0057.jp2)
- 3-1 緒言 / p53 (0057.jp2)
- 3-2 実験方法 / p53 (0057.jp2)
- 3-3 実験結果 / p59 (0063.jp2)
- 3-4 考察 / p71 (0075.jp2)
- 3-5 結論 / p79 (0083.jp2)
- 参考文献 / p80 (0084.jp2)
- 第4章 総括 / p82 (0086.jp2)
- 謝辞 / (0088.jp2)