超短パルスエキシマレーザーの研究
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Bibliographic Information
- Title
-
超短パルスエキシマレーザーの研究
- Author
-
渡辺, 昌良
- Author(Another name)
-
ワタナベ, マサヨシ
- University
-
東京大学
- Types of degree
-
工学博士
- Grant ID
-
乙第9790号
- Degree year
-
1990-07-12
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 第2章 エキシマとエキシマレーザー / p4 (0007.jp2)
- 2.1 エキシマレーザーとは / p4 (0007.jp2)
- 2.2 エキシマレーザーの原理 / p6 (0008.jp2)
- 第3章 大出力超短パルス希ガスハライドレーザーシステム / p11 (0010.jp2)
- 3.1 レーザーシステムの概要 / p11 (0010.jp2)
- 3.2 レーザーシステムの目的と応用 / p13 (0011.jp2)
- 第4章 工キシマレーザーの開発 / p15 (0012.jp2)
- 4.1 エキシマレーザーの種類と設計 / p15 (0012.jp2)
- 4.2 高繰り返し小口径放電励起エキシマレーザー / p17 (0013.jp2)
- 4.3 中口径放電励起エキシマレーザー / p19 (0014.jp2)
- 4.4 大口径電子ビーム励起エキシマレーザー / p21 (0015.jp2)
- 4.5 トリガーシステム / p23 (0016.jp2)
- 第5章 超短シードパルスの発生 / p26 (0018.jp2)
- 5.1 紫外域超短パルスの発生 / p26 (0018.jp2)
- 5.2 エキシマレーザーのモード同期 / p30 (0020.jp2)
- 5.3 ピコ秒シードパルスの発生 / p50 (0030.jp2)
- 5.4 サブピコ秒シードパルスの発生 / p60 (0035.jp2)
- 5.5 超短パルスの限界と今後 / p76 (0043.jp2)
- 第6章 紫外域超短パルスのパルス幅測定 / p79 (0044.jp2)
- 6.1 自己相関法によるパルス幅測定 / p79 (0044.jp2)
- 6.2 サブピコ秒XeClレーザーの測定 / p84 (0047.jp2)
- 6.3 サブピコ秒KrFレーザーの測定 / p84 (0047.jp2)
- 第7章 エキシマレーザーによる超短パルス増幅 / p88 (0049.jp2)
- 7.1 大出力超短パルスレーザーシステム / p88 (0049.jp2)
- 7.2 ASE(amplified spontaneous emission)の解析 / p92 (0051.jp2)
- 7.3 XeClレーザーシステム増幅実験 / p102 (0056.jp2)
- 7.4 KrFレーザーシステム増幅実験 / p107 (0058.jp2)
- 7.5 高繰り返しKrFレーザーシステム増幅実験 / p115 (0062.jp2)
- 7.6 可飽和吸収体の特性 / p119 (0064.jp2)
- 第8章 紫外域超短パルスの伝播特性 / p125 (0067.jp2)
- 8.1 レーザーシステムと超短パルス / p125 (0067.jp2)
- 8.2 分散媒質によるパルス幅広がり / p126 (0068.jp2)
- 8.3 増幅によるパルス幅広がり / p134 (0072.jp2)
- 8.4 光学材料の非線形吸収と色中心の形成 / p150 (0080.jp2)
- 第9章 結論 / p155 (0082.jp2)
- 謝辞 / p158 (0084.jp2)
- 参考文献 / p159 (0084.jp2)