高性能光磁気メモリーディスク基盤用高分子材料の開発に関する研究

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Author

    • 白水, 重憲 シロウズ, シゲノリ

Bibliographic Information

Title

高性能光磁気メモリーディスク基盤用高分子材料の開発に関する研究

Author

白水, 重憲

Author(Another name)

シロウズ, シゲノリ

University

九州大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第5175号

Degree year

1992-04-21

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 本研究の背景と目的 / p2 (0007.jp2)
  4. 1.2 本論文の構成 / p4 (0009.jp2)
  5. 第2章 ポリカーボネートディスク基盤における大きな斜め入射複屈折の起源 / p7 (0012.jp2)
  6. 2.1 緒言 / p8 (0013.jp2)
  7. 2.2 実験 / p8 (0013.jp2)
  8. 2.3 結果と考察 / p16 (0021.jp2)
  9. 2.4 結論 / p26 (0031.jp2)
  10. 第3章 ポリカーボネート系の構成単位の屈折率異方性 / p27 (0032.jp2)
  11. 3.1 緒言 / p28 (0033.jp2)
  12. 3.2 実験 / p29 (0034.jp2)
  13. 3.3 結果と考察 / p39 (0044.jp2)
  14. 3.4 結論 / p42 (0047.jp2)
  15. 第4章 ポリカーボネート系の光弾性係数 / p43 (0048.jp2)
  16. 4.1 緒言 / p44 (0049.jp2)
  17. 4.2 実験 / p45 (0050.jp2)
  18. 4.3 結果と考察 / p49 (0054.jp2)
  19. 4.4 結論 / p63 (0068.jp2)
  20. 第5章 配向緩和性と配向度評価 / p64 (0069.jp2)
  21. 5.1 緒言 / p65 (0070.jp2)
  22. 5.2 実験 / p66 (0071.jp2)
  23. 5.3 結果と考察 / p71 (0076.jp2)
  24. 5.4 結論 / p81 (0086.jp2)
  25. 第6章 PHポリカーボネート製光磁気ディスク基盤の屈折率楕円体-第一次ディスク基盤試作結果- / p85 (0090.jp2)
  26. 6.1 緒言 / p86 (0091.jp2)
  27. 6.2 実験 / p86 (0091.jp2)
  28. 6.3 結果と考察 / p87 (0092.jp2)
  29. 6.4 結論 / p94 (0099.jp2)
  30. 第7章 ポリフォルマール製光磁気ディスク基盤の屈折率楕円体 / p95 (0100.jp2)
  31. 7.1 緒言 / p96 (0101.jp2)
  32. 7.2 実験 / p96 (0101.jp2)
  33. 7.3 結果と考察 / p100 (0105.jp2)
  34. 7.4 結論 / p114 (0119.jp2)
  35. 第8章 総括 / p117 (0122.jp2)
  36. 文献 / p121 (0126.jp2)
  37. 謝辞 / p125 (0130.jp2)
2access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000089159
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000089379
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000253473
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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