スチレン系ポリスルホンの合成及びポジ型レジスト高分子への応用

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Author

    • 金, 炳圭 キム, ビョンキュウ

Bibliographic Information

Title

スチレン系ポリスルホンの合成及びポジ型レジスト高分子への応用

Author

金, 炳圭

Author(Another name)

キム, ビョンキュウ

University

東北大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第4838号

Degree year

1993-03-25

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 / p1 (0002.jp2)
  2. 第一章 研究の背景と目的 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 ポリスルホン / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 レジストについて / p3 (0006.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的及び方法 / p5 (0007.jp2)
  6. 1.4 本論文の概要 / p7 (0008.jp2)
  7. 1.5 参考文献 / p9 (0009.jp2)
  8. 第二章 スチレン系ポリスルホンの合成 / p11 (0010.jp2)
  9. 2.1 序 / p11 (0010.jp2)
  10. 2.2 実験 / p15 (0012.jp2)
  11. 2.3 結果及び考察 / p20 (0014.jp2)
  12. 2.4 結論 / p62 (0035.jp2)
  13. 2.5 参考文献 / p63 (0036.jp2)
  14. 第三章 スチレン系ポリスルホンの光分解挙動 / p66 (0037.jp2)
  15. 3.1 序 / p66 (0037.jp2)
  16. 3.2 実験 / p71 (0040.jp2)
  17. 3.3 結果及び考察 / p76 (0042.jp2)
  18. 3.4 結論 / p93 (0051.jp2)
  19. 3.5 参考文献 / p96 (0052.jp2)
  20. 第四章 スチレン系ポリスルホンの脱保護基反応 / p97 (0053.jp2)
  21. 4.1 序 / p97 (0053.jp2)
  22. 4.2 実験 / p99 (0054.jp2)
  23. 4.3 結果及び考察 / p107 (0058.jp2)
  24. 4.4 結論 / p126 (0067.jp2)
  25. 4.5 参考文献 / p128 (0068.jp2)
  26. 第五章 スチレン系ポリスルホンのレジスト高分子への応用 / p131 (0070.jp2)
  27. 5.1 序 / p131 (0070.jp2)
  28. 5.2 実験 / p139 (0074.jp2)
  29. 5.3 結果及び考察 / p142 (0075.jp2)
  30. 5.4 結論 / p174 (0091.jp2)
  31. 5.5 参考文献 / p178 (0093.jp2)
  32. 第六章 総括 / p180 (0094.jp2)
  33. 謝辞 / p184 (0096.jp2)
3access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000095394
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000095620
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000259708
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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