シリコン清浄表面の相転移および金-シリコン界面でのシリサイド形成の研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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シリコン清浄表面の相転移および金-シリコン界面でのシリサイド形成の研究
- 著者名
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窪田, 政一
- 著者別名
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クボタ, マサカズ
- 学位授与大学
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東京大学
- 取得学位
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博士 (理学)
- 学位授与番号
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乙第10249号
- 学位授与年月日
-
1991-06-24
注記・抄録
博士論文
目次
- CONTENTS / (0004.jp2)
- Chapter1 General introduction / p1 (0005.jp2)
- References / p6 (0010.jp2)
- Chapter2 Rapid measuring system of LEED / p10 (0014.jp2)
- 2.1 Introduction / p11 (0015.jp2)
- 2.2 Data Handling / p12 (0016.jp2)
- 2.3 Details of Equipment / p13 (0017.jp2)
- 2.4 Performance / p19 (0023.jp2)
- References / p20 (0024.jp2)
- Chapter3 study of streak patterns in low-energy electron diffraction on Si(OOl) / p22 (0026.jp2)
- 3.1 Introduction / p23 (0027.jp2)
- 3.2 Experiments / p24 (0028.jp2)
- 3.3 Results and Discussions / p28 (0032.jp2)
- Reference / p48 (0052.jp2)
- Chapter4 Silicide formation in the Au-Si interface / p51 (0055.jp2)
- 4.1 Introduction / p52 (0056.jp2)
- 4.2 Experiments / p54 (0058.jp2)
- 4.3 Results and Discussions / (0059.jp2)
- 4.4 Conclusions / p75 (0079.jp2)
- Reference / p76 (0080.jp2)