高周波マグネトロンスパッタ法によるYBa[2]Cu[3]O[7-8]薄膜の作製と結晶性に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
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高周波マグネトロンスパッタ法によるYBa[2]Cu[3]O[7-8]薄膜の作製と結晶性に関する研究
- Author
-
本間, 工士
- Author(Another name)
-
ホンマ, ノリオ
- University
-
北海道大学
- Types of degree
-
博士 (工学)
- Grant ID
-
乙第4517号
- Degree year
-
1994-03-25
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1.1 銅酸化物系超伝導体の発見 / p1 (0005.jp2)
- 1.2 銅酸化物系超伝導体の基本構造と物性 / p4 (0007.jp2)
- 1.3 [化学式]の結晶構造と超伝導特性 / p6 (0008.jp2)
- 1.4 超伝導薄膜の重要性 / p14 (0012.jp2)
- 1.5 銅酸化物系超伝導薄膜の代表的な作製法 / p17 (0013.jp2)
- 1.6 本論文の目的と内容 / p21 (0015.jp2)
- <第1章の参考文献> / p24 (0017.jp2)
- 第2章 [化学式]薄膜の作製装置と評価法 / p27 (0018.jp2)
- 2.1 高周波マグネトロンスパッタ装置 / p27 (0018.jp2)
- 2.2 配向および結晶性の評価 / p30 (0020.jp2)
- 2.3 表面モフォロジー観察 / p32 (0021.jp2)
- 2.4 元素分析 / p33 (0021.jp2)
- 2.5 膜厚測定 / p34 (0022.jp2)
- 2.6 電気抵抗率の温度特性測定 / p34 (0022.jp2)
- 2.7 光学測定 / p35 (0022.jp2)
- <第2章の参考文献> / p36 (0023.jp2)
- 第3章 薄膜生成に対する励起周波数の効果 / p37 (0023.jp2)
- 3.1 はじめに / p37 (0023.jp2)
- 3.2 実験方法 / p37 (0023.jp2)
- 3.3 再スパッタと自己バイアス電圧 / p39 (0024.jp2)
- 3.4 スパッタイオンのエネルギー分布幅 / p49 (0029.jp2)
- 3.5 まとめ / p58 (0034.jp2)
- <第3章の参考文献> / p59 (0034.jp2)
- 第4章 95MHzマグネトロンスパッタ法による結晶成長 / p60 (0035.jp2)
- 4.1 はじめに / p60 (0035.jp2)
- 4.2 実験方法 / p60 (0035.jp2)
- 4.3 結晶配向と基板 / p61 (0035.jp2)
- 4.4 a軸配向[化学式]薄膜の結晶性 / p73 (0041.jp2)
- 4.5 まとめ / p87 (0048.jp2)
- <第4章の参考文献> / p89 (0049.jp2)
- 第5章 95MHzマグネトロンスパッタ法における自己バイアス電圧効果 / p91 (0050.jp2)
- 5.1 はじめに / p91 (0050.jp2)
- 5.2 実験方法 / p91 (0050.jp2)
- 5.3 自己バイアス電圧のシフトと再スパッタ / p93 (0051.jp2)
- 5.4 結晶性と超伝導性 / p95 (0052.jp2)
- 5.5 a軸配向膜積層の新しい可能性 / p108 (0059.jp2)
- 5.6 まとめ / p108 (0059.jp2)
- <第5章の参考文献> / p110 (0060.jp2)
- 第6章 結論 / p111 (0060.jp2)
- 謝辞 / p115 (0062.jp2)
- 本研究に関する発表 / p116 (0063.jp2)