X線分析による半導体薄膜材料の評価

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著者

    • 刈谷, 哲也 カリヤ, テツヤ

書誌事項

タイトル

X線分析による半導体薄膜材料の評価

著者名

刈谷, 哲也

著者別名

カリヤ, テツヤ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第6925号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文内容要旨 / 前付1 / (0003.jp2)
  2. 目次 / 前付2 / (0004.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.1 研究の背景 / p1 (0006.jp2)
  5. 1.2 評価のための手段と対象物質 / p2 (0007.jp2)
  6. 1.3 本研究の目的 / p3 (0007.jp2)
  7. 1.4 本論文の構成 / p3 (0007.jp2)
  8. 参考文献 / p5 (0008.jp2)
  9. 第2章 Ge基板上のGaPの蛍光X線分析 / p6 (0009.jp2)
  10. 2.1 緒言 / p6 (0009.jp2)
  11. 2.2 薄膜試料の蛍光X線線強度の数値計算的検討 / p7 (0010.jp2)
  12. 2.3 Ga-P系膜の定量蛍光X線分析 / p10 (0011.jp2)
  13. 2.4 Ga-P系試料の分析結果の検討 / p13 (0013.jp2)
  14. 2.5 結言 / p15 (0014.jp2)
  15. 参考文献 / p16 (0014.jp2)
  16. 第3章 薄膜の電子プローブX線マイクロ分析のための条件 / p17 (0015.jp2)
  17. 3.1 緒言 / p17 (0015.jp2)
  18. 3.2 膜厚と分析線強度の関係 / p19 (0016.jp2)
  19. 3.3 定量分析可能な膜厚の下限 / p32 (0023.jp2)
  20. 3.4 結言 / p36 (0025.jp2)
  21. 参考文献 / p37 (0025.jp2)
  22. 第4章 Cu-In-Se系薄膜の電子プローブX線マイクロ分析 / p38 (0026.jp2)
  23. 4.1 緒言 / p38 (0026.jp2)
  24. 4.2 Cu-In-Se系試料の分析 / p38 (0026.jp2)
  25. 4.3 Cu-In-Se系試料の分析技術に関する考察 / p43 (0029.jp2)
  26. 4.4 Cu-In-Se系試料の分析結果の検討 / p44 (0029.jp2)
  27. 4.4 結言 / p51 (0033.jp2)
  28. 参考文献 / p53 (0034.jp2)
  29. 第5章 I III VI₂型化合物混晶の電子プローブX線マイクロ分析 / p54 (0034.jp2)
  30. 5.1 緒言 / p54 (0034.jp2)
  31. 5.2 EPMAによるCuGaSe₂-CuGaS₂系の分析 / p55 (0035.jp2)
  32. 5.3 EPMAによるCuGaS₂-CuInS₂系の分析 / p61 (0038.jp2)
  33. 5.4 結言 / p65 (0040.jp2)
  34. 参考文献 / p66 (0040.jp2)
  35. 第6章 X線回折による極点図形の観測 / p67 (0041.jp2)
  36. 6.1 緒言 / p67 (0041.jp2)
  37. 6.2 極点図形観測方法 / p68 (0042.jp2)
  38. 6.3 石英ガラス基板上の多結晶Si薄膜の極点図形 / p71 (0043.jp2)
  39. 6.4 (111)Si基板上の多結晶Si膜の極点図形 / p80 (0048.jp2)
  40. 6.5 ガラス基板上の多結晶CdS膜の極点図形 / p90 (0053.jp2)
  41. 6.6 結言 / p101 (0058.jp2)
  42. 参考文献 / p103 (0059.jp2)
  43. 第7章 結論 / p104 (0060.jp2)
  44. 化学的組成の分析 / p104 (0060.jp2)
  45. 多結晶膜の配向 / p105 (0061.jp2)
  46. 謝辞 / p107 (0062.jp2)
  47. 研究業績 / p108 (0063.jp2)
8アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000130686
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000954433
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • und
  • NDL書誌ID
    • 000000295000
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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