分子動力学法による非晶質薄膜の成長シミュレーションと垂直磁気異方性の発生機構に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
分子動力学法による非晶質薄膜の成長シミュレーションと垂直磁気異方性の発生機構に関する研究
- 著者名
-
佐藤, 厚
- 著者別名
-
サトウ, アツシ
- 学位授与大学
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日本大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
-
甲第2385号
- 学位授与年月日
-
1996-03-25
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0004.jp2)
- 1-1 本研究の背景 / p2 (0005.jp2)
- 1-2 本研究の目的 / p6 (0007.jp2)
- 1-3 本論文の概要 / p8 (0008.jp2)
- 第2章 非晶質合金膜の垂直磁気異方性 / p9 (0008.jp2)
- 2-1 非晶質合金膜の研究背景 / p10 (0009.jp2)
- 2-2 垂直磁気異方性の発生機構 / p12 (0010.jp2)
- 第3章 計算機シミュレーションによる材料科学研究 / p19 (0013.jp2)
- 3-1 背景 / p20 (0014.jp2)
- 3-2 薄膜シミュレーションの現状 / p23 (0015.jp2)
- 3-3 分子動力学法 / p26 (0017.jp2)
- 第4章 分子動力学法による非晶質Ar膜の成膜シミュレーションと膜構造の評価 / p31 (0019.jp2)
- 4-1 まえがき / p32 (0020.jp2)
- 4-2 仮想空間 / p34 (0021.jp2)
- 4-3 レナード･ジョーンズポテンシャル / p38 (0023.jp2)
- 4-4 クエンチ / p41 (0024.jp2)
- 4-5 シミュレーションの計算手順 / p45 (0026.jp2)
- 4-6 シミュレーション膜の原子分布の評価 / p49 (0028.jp2)
- 4-7 膜構造評価ならびに考察 / p55 (0031.jp2)
- 4-8 第4章のまとめ / p67 (0037.jp2)
- 第5章 分子動力学法による非晶質2元合金の成膜シミュレーションと膜構造の評価 / p69 (0038.jp2)
- 5-1 まえがき / p70 (0039.jp2)
- 5-2 単原子から合金膜へのシミュレーションの改良点 / p72 (0040.jp2)
- 5-3 原子対分布指数η / p77 (0042.jp2)
- 5-4 膜構造評価ならびに考察 / p80 (0044.jp2)
- 5-5 第5章のまとめ / p97 (0052.jp2)
- 第6章 結論 / p99 (0053.jp2)
- 6-1 結論 / p100 (0054.jp2)
- 謝辞 / (0055.jp2)
- 参考文献 / (0056.jp2)
- 著者掲載論文･口頭発表一覧 / (0058.jp2)