新規光学活性メタロセニルホスフィン配位子の合成およびそれを用いた触媒的不斉合成
Access this Article
Search this Article
Author
Bibliographic Information
- Title
-
新規光学活性メタロセニルホスフィン配位子の合成およびそれを用いた触媒的不斉合成
- Author
-
大野, 晃
- Author(Another name)
-
オオノ, アキラ
- University
-
北海道大学
- Types of degree
-
博士 (薬学)
- Grant ID
-
甲第3820号
- Degree year
-
1996-03-25
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / (0005.jp2)
- 序論 / p1 (0007.jp2)
- 第一章 ジシランを用いたパラジウム触媒アリル位シリル化反応 / p4 (0010.jp2)
- 第一節 序論 / p4 (0010.jp2)
- 第二節 本論 / p6 (0012.jp2)
- 実験の部 / p14 (0020.jp2)
- 第二章 新規光学活性ルテノセニルビスホスフィン配位子の合成とそれを用いた触媒的不斉合成 / p24 (0030.jp2)
- 第一節 序論 / p24 (0030.jp2)
- 第二節 合成計画 / p27 (0033.jp2)
- 第三節 ルテノセンカルボキサアルデヒドおよびフェロセンカルボキサアルデヒドに対する触媒的不斉アルキル化の検討 / p29 (0035.jp2)
- 第四節 光学活性ルテノセニルビスホスフィンEt-BPPRA,BPPRAの合成 / p32 (0038.jp2)
- 第五節 ルテノセニルビスホスフィンのジクロロパラジウム錯体のX線構造解析 / p35 (0041.jp2)
- 第六節 光学活性ルテノセニルビスホスフィンを用いた触媒的不斉合成 / p38 (0044.jp2)
- 実験の部 / p43 (0049.jp2)
- 第三章 フェロセニルメチル位上にエチル基,ブチル基を有する新規光学活性フェロセニルホスフィン配位子の合成および触媒的不斉合成 / p71 (0077.jp2)
- 第一節 序論 / p71 (0077.jp2)
- 第二節 フェロセニルメチル位上にエチル基またはブチル基を有する新規光学活性フェロセニルホスフィン配位子の合成 / p72 (0078.jp2)
- 第三節 フェロセニルメチル位上にエチル基を有するフェロセニルホスフィンの構造解析 / p75 (0081.jp2)
- 第四節 触媒的不斉合成反応への適用 / p79 (0088.jp2)
- 実験の部 / p86 (0095.jp2)
- 第四章 メタロセニルホスフィン-パラジウム錯体を用いた触媒的不斉環化反応 / p112 (0121.jp2)
- 第一節 序論 / p112 (0121.jp2)
- 第二節 反応条件の検討 / p114 (0123.jp2)
- 第三節 反応の立体化学に関する考察 / p127 (0136.jp2)
- 第四節 不斉誘導機構に関する考察 / p131 (0140.jp2)
- 実験の部 / p139 (0148.jp2)
- 結語 / p161 (0170.jp2)
