材料・プロセスによる光ディスク媒体高密度化に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
材料・プロセスによる光ディスク媒体高密度化に関する研究
- 著者名
-
勝田, 伸一
- 著者別名
-
カツタ, シンイチ
- 学位授与大学
-
千葉工業大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
乙第5号
- 学位授与年月日
-
1996-03-19
注記・抄録
博士論文
目次
- もくじ / (0007.jp2)
- 第1章.緒言 / p1 (0010.jp2)
- 1-1.本研究の目的 / p1 (0010.jp2)
- 1-2.光ディスクの変遷 / p2 (0011.jp2)
- 1-3.光ディスクの種類 / p4 (0012.jp2)
- 1-4.高密度化技術 / p8 (0014.jp2)
- 文献 / p18 (0019.jp2)
- 第2章.高密度マスタリングにおける光学系 / p22 (0021.jp2)
- 2-1.UVマスターライターの開発 / p22 (0021.jp2)
- 2-2.高密度マスタリングにおける熱影響の評価 / p29 (0024.jp2)
- 2-3.UVマスターライターを用いた高密度マスタリング / p35 (0027.jp2)
- 2-4.光源の短波長化以外の高密度マスタリング技術 / p40 (0030.jp2)
- 2-5.本章のまとめ / p44 (0032.jp2)
- 文献 / p45 (0032.jp2)
- 第3章.マスタリングプロセスによる高密度化 / p47 (0033.jp2)
- 3-1.マスタリング用フォトレジスト材料の選定 / p47 (0033.jp2)
- 3-2.CELプロセス / p54 (0037.jp2)
- 3-3.HARDプロセス / p58 (0039.jp2)
- 3-4.本章のまとめ / p62 (0041.jp2)
- 文献 / p64 (0042.jp2)
- 第4章.成形ディスクの基本特性 / p65 (0042.jp2)
- 4-1.スタンパ化 / p65 (0042.jp2)
- 4-2.PC基板の信頼性 / p66 (0043.jp2)
- 4-3.高密度射出成形 / p71 (0045.jp2)
- 4-4.再生ノイズに与える基板の表面性 / p77 (0048.jp2)
- 4-5.吸湿膨潤 / p80 (0050.jp2)
- 4-6.本章のまとめ / p85 (0052.jp2)
- 文献 / p87 (0053.jp2)
- 第5章.光磁気ディスク用保護膜の化学的安定性 / p89 (0054.jp2)
- 5-1.光磁気ディスク用保護膜に要求される基本性能 / p89 (0054.jp2)
- 5-2.酸化イットリウム / p91 (0055.jp2)
- 5-3.窒化シリコン / p99 (0059.jp2)
- 5-4.本章のまとめ / p106 (0063.jp2)
- 文献 / p107 (0063.jp2)
- 第6章.光磁気磁性膜の作製と磁気特性 / p108 (0064.jp2)
- 6-1. TbFeCo磁性薄膜 / p108 (0064.jp2)
- 6-2.合金ターゲットによる磁性薄膜 / p111 (0065.jp2)
- 6-3.共スパッタによる磁性薄膜 / p122 (0071.jp2)
- 6-4.磁界変調記録 / p126 (0073.jp2)
- 6-5.本章のまとめ / p127 (0073.jp2)
- 文献 / p129 (0074.jp2)
- 第7章.結言 / p130 (0075.jp2)
- 7-1.本論文の総括 / p130 (0075.jp2)
- 7-2.今後の光ディスク高密度化技術展望 / p134 (0077.jp2)
- 謝辞 / p136 (0078.jp2)
- 本研究に関する発表 / p137 (0078.jp2)
- 付録 用語解説 / p140 (0080.jp2)