電極表面における分子挙動の表面増強赤外分光法による研究

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Author

    • 安宅, 憲一 アタカ, ケンイチ

Bibliographic Information

Title

電極表面における分子挙動の表面増強赤外分光法による研究

Author

安宅, 憲一

Author(Another name)

アタカ, ケンイチ

University

東北大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第5655号

Degree year

1996-03-26

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 / p1 (0004.jp2)
  2. 第1章 緒論 / (0008.jp2)
  3. 1-1.はじめに / p1 (0009.jp2)
  4. 1-2.既往の研究 / p2 (0010.jp2)
  5. 1-3.研究方針 / p21 (0029.jp2)
  6. 引用文献 / p23 (0031.jp2)
  7. 第2章 実験 / (0040.jp2)
  8. 2-1.緒言 / p32 (0041.jp2)
  9. 2-2.Au薄膜の作成 / p32 (0041.jp2)
  10. 2-3.電極 / p33 (0042.jp2)
  11. 2-4.セル / p34 (0043.jp2)
  12. 2-5.試料調整 / p36 (0045.jp2)
  13. 2-6.電気化学測定 / p36 (0045.jp2)
  14. 2-7.赤外測定 / p36 (0045.jp2)
  15. 2-8.高感度反射赤外分光法 / p39 (0048.jp2)
  16. 2-9.その場測定法 / p41 (0050.jp2)
  17. 2-10.ATR-SEIRASとIRASの比較 / p43 (0052.jp2)
  18. 引用文献 / p46 (0055.jp2)
  19. 第3章 表面増強赤外吸収の理論 / (0056.jp2)
  20. 3-1.緒論 / p47 (0057.jp2)
  21. 3-2.蒸着金属薄膜におけるプラズマ共鳴 / p47 (0057.jp2)
  22. 3-3.表面増強電場の存在の検証-表面選択律 / p54 (0064.jp2)
  23. 3-4.金属薄膜の誘電率の変化による効果 / p60 (0070.jp2)
  24. 3-5.透過条件におけるSEIRAスペクトルのシミュレーション / p64 (0074.jp2)
  25. 3-6.ATR条件におけるSEIRAスペクトルのシミュレーション / p73 (0083.jp2)
  26. 3-7.4層系におけるATR-SEIRAスペクトルのシミュレーション / p81 (0091.jp2)
  27. 3-8.結論 / p86 (0096.jp2)
  28. 引用文献 / p87 (0097.jp2)
  29. 第4章 電極表面におけるアニオンならびに水分子の挙動 / (0099.jp2)
  30. 4-1.緒論 / p89 (0100.jp2)
  31. 4-2.実験 / p89 (0100.jp2)
  32. 4-3.過塩素酸溶液中での挙動 / p90 (0101.jp2)
  33. 4-4.硫酸溶液中における挙動 / p113 (0124.jp2)
  34. 4-5.Au電極表面へのCu原子のアンダーポテンシャル析出 / p136 (0147.jp2)
  35. 4-6.結論 / p151 (0162.jp2)
  36. 引用文献 / p152 (0163.jp2)
  37. 第5章 有機分子の吸着と反応 / (0169.jp2)
  38. 5-1.緒論 / p158 (0170.jp2)
  39. 5-2.自己集合型チオール単分子膜の反応 / p158 (0170.jp2)
  40. 5-3.p-ヒドロキシチオフェノールの重合反応 / p182 (0194.jp2)
  41. 5-4.結論 / p205 (0217.jp2)
  42. 引用文献 / p206 (0218.jp2)
  43. 第6章 総括 / p209 (0221.jp2)
  44. Appendix / (0225.jp2)
  45. A.Maxwell-Garnettの有効誘電率近似 / p212 (0226.jp2)
  46. B.Dumped Harmonic Oscillatorモデル / p213 (0227.jp2)
  47. C.Fresnelの式2) / p216 (0230.jp2)
  48. D.二次元赤外分光法 / p220 (0234.jp2)
  49. 謝辞 / p229 (0243.jp2)
5access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000134905
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000973984
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000299219
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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