ダイヤモンド薄膜のエピタクシャル成長とその応用に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 牧, 哲朗 マキ, テツロウ

書誌事項

タイトル

ダイヤモンド薄膜のエピタクシャル成長とその応用に関する研究

著者名

牧, 哲朗

著者別名

マキ, テツロウ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第7090号

学位授与年月日

1997-01-16

注記・抄録

博士論文

14401乙第07090号

博士(工学)

大阪大学

1997-01-16

12789

目次

  1. 目次 / p3 (0005.jp2)
  2. 1章 序論 / p1 (0007.jp2)
  3. 1-1 研究の背景 / p1 (0007.jp2)
  4. 1-2 ダイヤモンド薄膜成長の研究状況 / p6 (0012.jp2)
  5. 1-3 ダイヤモンド薄膜の電子物性と問題点 / p7 (0013.jp2)
  6. 1-4 本論文の構成 / p9 (0015.jp2)
  7. 2章 ダイヤモンド薄膜合成 / p12 (0018.jp2)
  8. 2-1 まえがき / p12 (0018.jp2)
  9. 2-2 ダイヤモンド薄膜の成長 / p13 (0019.jp2)
  10. 2-3 ダイヤモンドホモエピタクシー / p17 (0023.jp2)
  11. 2-4 まとめ / p22 (0028.jp2)
  12. 3章 ダイヤモンド選択成長 / p24 (0030.jp2)
  13. 3-1 まえがき / p24 (0030.jp2)
  14. 3-2 YSZ薄膜マスクを用いたダイヤモンド選択成長 / p25 (0031.jp2)
  15. 3-3 ダイヤモンド選択ホモエピタクシー / p32 (0038.jp2)
  16. 3-4 まとめ / p41 (0047.jp2)
  17. 4章 ダイヤモンドp-i-p接合特性 / p45 (0050.jp2)
  18. 4-1 まえがき / p45 (0050.jp2)
  19. 4-2 p-i-p積層構造 / p45 (0050.jp2)
  20. 4-3 p-i-p接合の注入特性 / p51 (0056.jp2)
  21. 4-4 p-i-p接合の発光特性 / p56 (0061.jp2)
  22. 4-5 まとめ / p65 (0070.jp2)
  23. 5章 ダイヤモンド表面・界面処理とその電子特性 / p68 (0073.jp2)
  24. 5-1 まえがき / p68 (0073.jp2)
  25. 5-2 水素化処理 / p69 (0074.jp2)
  26. 5-3 酸素化処理 / p82 (0087.jp2)
  27. 5-4 CaF₂/ダイヤモンド接合によるダイヤモンド界面安化 / p89 (0094.jp2)
  28. 5-5 まとめ / p101 (0106.jp2)
  29. 6章 結論 / p103 (0108.jp2)
  30. 謝辞 / p105 (0110.jp2)
  31. 研究業績目録 / p107 (0112.jp2)
4アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000150062
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001060916
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000314376
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ