微小化学反応場の創製と反応制御に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 内田, 達也 ウチダ, タツヤ

書誌事項

タイトル

微小化学反応場の創製と反応制御に関する研究

著者名

内田, 達也

著者別名

ウチダ, タツヤ

学位授与大学

北海道大学

取得学位

博士 (理学)

学位授与番号

乙第5205号

学位授与年月日

1997-09-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第一章 序論 / 1-1 / (0008.jp2)
  3. 1-1 微細加工技術による新しい化学 / 1-1 / (0008.jp2)
  4. 1-2 微小化学反応の駆動と制御 / 1-4 / (0011.jp2)
  5. 1-3 微小化学反応場の創製 / 1-6 / (0013.jp2)
  6. 1-4 本研究の目的および本論文の構成 / 1-9 / (0016.jp2)
  7. 第二章 レーザーアブレーションによる有機高分子固体表面での微細構造形成と外部ガス分子の導入 / 2-1 / (0020.jp2)
  8. 2-1 緒言 / 2-1 / (0020.jp2)
  9. 2-2 実験方法 / 2-4 / (0023.jp2)
  10. 2-3 エッチング速度に及ぼす雰囲気ガスの効果 / 2-7 / (0026.jp2)
  11. 2-4 微細構造形成に及ぼす雰囲気ガスの効果 / 2-11 / (0030.jp2)
  12. 2-5 外部ガス分子の導入 / 2-23 / (0042.jp2)
  13. 2-6 結言 / 2-29 / (0048.jp2)
  14. 第三章 レーザーアブレーションしたPMMA固体表面に対する機能性色素分子の位置選択的導入 / 3-1 / (0051.jp2)
  15. 3-1 緒言 / 3-1 / (0051.jp2)
  16. 3-2 実験方法 / 3-3 / (0053.jp2)
  17. 3-3 アブレート表面の微細構造 / 3-5 / (0055.jp2)
  18. 3-4 アブレート表面に対する色素分子の位置選択的導入 / 3-14 / (0064.jp2)
  19. 3-5 多段階処理による複数分子種の位置選択的導入 / 3-19 / (0069.jp2)
  20. 3-6 レーザーアブレーションによるラジカル種の生成 / 3-21 / (0071.jp2)
  21. 3-7 レーザーアブレーションによる表面化学組成の変化 / 3-24 / (0074.jp2)
  22. 3-8 レーザーアブレート表面の濡れ性 / 3-32 / (0082.jp2)
  23. 3-9 色素の導入機構 / 3-34 / (0084.jp2)
  24. 3-10 結言 / 3-36 / (0086.jp2)
  25. 第四章 バンド型酸化チタン微小電極の作製と光電気化学的性質 / 4-1 / (0089.jp2)
  26. 4-1 緒言 / 4-1 / (0089.jp2)
  27. 4-2 バンド型酸化チタン微小電極の作製 / 4-4 / (0092.jp2)
  28. 4-3 バンド型酸化チタン微小電極の光電気化学的性質 / 4-12 / (0100.jp2)
  29. 4-4 結言 / 4-31 / (0119.jp2)
  30. 第五章 酸化チタン-白金マイクロアレイ電極における水の光電気分解反応 / 5-1 / (0122.jp2)
  31. 5-1 緒言 / 5-1 / (0122.jp2)
  32. 5-2 実験方法 / 5-2 / (0123.jp2)
  33. 5-3 隣接白金電極による酸化チタン光電流の増幅 / 5-5 / (0126.jp2)
  34. 5-4 光電流増幅の酸化チタン-白金電極間距離依存性 / 5-16 / (0137.jp2)
  35. 5-5 結言 / 5-22 / (0143.jp2)
  36. 第六章 酸化スズマイクロアレイ電極におけるルテニウム錯体の分光増感反応 / 6-1 / (0145.jp2)
  37. 6-1 緒言 / 6-1 / (0145.jp2)
  38. 6-2 実験方法 / 6-3 / (0147.jp2)
  39. 6-3 酸化スズマイクロアレイ電極による酸化還元反応 / 6-5 / (0149.jp2)
  40. 6-4 単一モードにおける分光増感反応 / 6-15 / (0159.jp2)
  41. 6-5 GCモードでの分光増感反応 / 6-25 / (0169.jp2)
  42. 6-6 結言 / 6-29 / (0173.jp2)
  43. 第七章 総括 / 7-1 / (0176.jp2)
  44. 研究業績一覧 / (0180.jp2)
  45. 謝辞 / (0184.jp2)
0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000151475
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001068420
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000315789
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ